科民ALD實現(xiàn)高質量依(Ir)單質沉積

發(fā)布時間:

2019/01/10

金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果。科民電子利用PE-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現(xiàn)高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。

科民ALD實現(xiàn)高質量依(Ir)單質沉積

　　金屬銥單質在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅體不易擴散等難點，成功實現(xiàn)高質量單質銥SEM結果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。

 

SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設備